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2026 年 08 月

心理学"psyche"的词源考——从"呼吸"到"行为科学"的语义漂移

2026-08-01

心理学 #词源学#心理学史#语义演变#行为科学#认知革命
心理学"psyche"的词源考——从"呼吸"到"行为科学"的语义漂移 心理学是研究行为和心理活动的学科。19世纪末成为独立学科，20世纪中期才有了相对统一的定义。这门学科的英文名 psychology 由两个希腊词根构成：psyche 和 logos。前者意为灵魂、心灵或精神，后者意为研究、知识或理
氮化硅薄膜：从等离子体化学到器件应用——PECVD制备、钝化机制与太阳电池应用

2026-08-01

半导体技术 #氮化硅#PECVD#减反射膜#氢钝化#少子寿命#晶体硅
氮化硅薄膜：从等离子体化学到器件应用 跨尺度物理与工艺的系统性综合 第一章　引言：氮化硅薄膜的时代坐标 氮化硅（SiNx）薄膜是现代半导体科技中用途最为广泛的无机介质材料之一。自二十世纪六十年代首次被用作硅器件的钝化保护层以来，这种材料已经渗透到集成电路制造、光伏能源转换、微机电系统（MEMS）、光
原子层沉积 Al₂O₃ 薄膜对单晶硅表面钝化机制的研究

2026-08-01

光伏技术 #ALD#Al2O3#表面钝化#少子寿命#原子层沉积
原子层沉积 Al₂O₃ 薄膜对单晶硅表面钝化机制的研究 本文基于孙平杨硕士学位论文（大连理工大学，微电子学与固体电子学，导师刘爱民教授），系统阐述原子层沉积（ALD）技术制备 Al₂O₃ 薄膜对单晶硅表面的钝化机制。通过瞬态表面光伏（SPV）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、X 射线衍射（XRD
PECVD工艺参数与薄膜性能关系的优化机制与工程实践

2026-08-01

光伏技术 #PECVD设备#晶体硅#减反射膜
PECVD工艺参数与薄膜性能关系的优化机制与工程实践 摘要 PECVD工艺参数与薄膜性能的关系是光伏产业核心工艺控制的基础问题。本文系统梳理了射频功率、腔室压力、沉积温度、气体流量比等关键工艺参数对氮化硅薄膜沉积速率、折射率、致密性、少子寿命等性能指标的影响机制，研究了低频PECVD钝化膜失效的双重
PECVD设备等离子体均匀性与电场控制的优化机制与工程实践

2026-08-01

光伏技术 #PECVD设备#晶体硅#半导体物理
PECVD设备等离子体均匀性与电场控制的优化机制与工程实践 摘要 PECVD设备中，等离子体均匀性是决定薄膜沉积质量的核心物理场之一。本文系统梳理了PECVD反应室内等离子体放电的基本物理机制、电势驻波效应的理论模型与数值求解方法、频率-电极尺寸-均匀性的定量关系、波长衰减因子的关键作用、大面积均匀
PECVD设备热流场耦合与加热系统设计的优化机制与工程控制

2026-08-01

光伏技术 #PECVD设备#晶体硅#半导体物理
PECVD设备热流场耦合与加热系统设计的优化机制与工程控制 摘要 PECVD设备中，热流场均匀性是决定薄膜沉积质量的核心物理场之一。本文系统梳理了PECVD反应室内传热的基本物理机制、有限元温度场仿真的方法学、外加热与内加热方式的对比选择、大面积加热的分区控温策略、大管径设备的功率智能调控，以及热流
PECVD设备气流场与布气系统的优化机制与工程控制

2026-08-01

光伏技术 #PECVD设备#晶体硅#减反射膜
PECVD设备气流场与布气系统的优化机制与工程控制 摘要 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备中，气流场均匀性是决定薄膜沉积质量的核心物理场之一。本文系统梳理了PECVD反应室内气体流动的基本物理机制、布气装置结构优化的理论与仿真方法、变结构腔室的压力分布规律、管式与平板式PECVD的流场优化

2026 年 07 月

创新点⑤详解：a-Si:H/Al₂O₃叠层钝化

2026-07-31

半导体技术 #半导体物理#晶体硅
09 · 创新点⑤ 详解:a-Si:H/Al₂O₃ 叠层钝化 系列文章:太阳电池晶体硅界面钝化研究 本文定位:从 a-Si:H 钝化的化学基础讲起,深入解释 a-Si:H/Al₂O₃ 叠层为何能突破单层极限,以及 界面态密度 谱"双 U 型"的物理起源 前置知识:建议先读 [01-08 篇] 写作原
创新点④详解：Al₂O₃负电荷起源(AlO₄配位)

2026-07-31

半导体技术 #半导体物理#晶体硅
08 · 创新点④ 详解:Al₂O₃ 负电荷起源(AlO₄ 配位) 系列文章:太阳电池晶体硅界面钝化研究 本文定位:从最基础的配位化学讲起,深入解释 Al₂O₃ 负电荷的化学起源,以及论文 X射线吸收光谱 实验如何直接观测到 AlO₄ 配位 前置知识:建议先读 [01-07 篇] 写作原则:从"什么
创新点③详解：等离子体增强原子层沉积与热原子层沉积对比

2026-07-31

半导体技术 #半导体物理#晶体硅
等离子体增强原子层沉积 vs 热原子层沉积 Al₂O₃ 对比 系列文章:太阳电池晶体硅界面钝化研究 本文定位:从化学层面深度对比 等离子体增强原子层沉积 和 热原子层沉积 两种 Al₂O₃ 沉积工艺,揭示 等离子体增强原子层沉积 负电荷更高的根本原因 前置知识:建议先读 [01-06 篇] 写作原则
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